该厂为89英寸晶圆生产销售线智能化的超纯净水平台，每一刻出现含硅废污水150吨。废污水底虽无天价属，但硅分量高易水垢，且内阻率需符合18MΩ·cm才华回收。原本的处理工学院艺没办法做到新出台的《电子设备产业水的污染物质进行产生的标准》（GB39731-2020）很大进行产生允许值。 化工废水部分特性 主耍污染问题物 ：氢氧化铁硅（200-300mg/L）、小粒硅（粒级0.1-1μm） 专项 符合要求 ：TOC<10μg/L，硼含氧量<5μg/L 水质量特质 ：低纯水电导率（<50μS/cm）但硅有机化合物型态复杂性 操作工序具体流程 研发用"梯级膜脱离+电去阴阳离子"组合公式工艺设备： 微滤预办理 ：1μm陶瓷厂家膜过滤大小粒硅，通量维护80LMH 正离子互转树脂材料 ：D201大孔硅橡胶会记忆性过滤硅酸氧分子 特殊RO装置 ：1段回报率60%，第五段选取高脱硼膜器件 EDI电去亚铁离子 ：功率规格2A/m²，连续避开残留物阳离子 紫外线灭菌 ：254nmUV太阳极为线用量40mJ/cm² 技术应用特点 发展上用阻硅剂（有机化学胺类复合材料物），延长时间膜弄脏时间是3倍 EDI板块革新流道制作，硅删去率发展至99.8% 一直在线硅研究仪（量测範圍0.1-500μg/L）实行正确抑制 自动运行认真总结 经第三个方加测： 总硅从280mg/L低于0.05mg/L 硼分量从8μg/L减少为0.3μg/L 整体回报率从原40%增强至68% 膜修改周期长缩短至5年，年作业成本低大大减少35%